| 用途分類 | 間數 | 總面積(坪) | 平均面積(坪) | 容納人數 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 教室 | 一般教室 | 5 | 108 | 21.6 | 210 |
| 梯型教室 | 4 | 152 | 38 | 432 | |
| 視聽教室 | 1 | 32 | 32 | 70 | |
| 教師研究室 | 50 | 400 | 8 | 50 | |
| 教學實驗室 | 12 | 312 | 26 | ||
| 研究實驗室 | 27 | 470 | 17.41 | ||
| 計算機主機室 | 1 | 32 | 32 | ||
| 工作站室及終端機 | 1 | 44 | 44 | ||
| 大學部閱覽室 | 1 | 34 | 34 | ||
| 研究生聯絡室 | 1 | 13 | 13 | ||
| 研究生讀書室 | 8 | 104 | 13 | ||
| 學生社團室 | 2 | 16 | 8 | ||
| 教師休息室 | 1 | 28 | 28 | ||
| 系主任/所長室 | 3 | 24 | 8 | ||
| 招待室 | 1 | 8 | 8 | ||
| 討論室 | 6 | 64 | 10.67 | 15-30 | |
| 會議室 | 1 | 40 | 40 | 50 | |
| 系辦公室 | 2 | 32 | 16 | 4 | |
| 期刊/影印室 | 1 | 8 | 8 | ||
| 演講廳 | 1 | 80 | 80 | 200 | |
| 檔案室 | 1 | 12 | 12 | ||
| 器材室 | 1 | 9 | 9 | ||
| 儲藏室 | 4 | 32 | 8 | ||
| 電子庫房 | 1 | 17 | 17 | ||
| 值夜室 | 1 | 16 | 16 | ||
| （借）電資院院長室 | 1 | 16 | 16 | ||
| 其他 | 897 | ||||
| Name | Quantity | Type & Series | Agent & Manufacturer |
|---|---|---|---|
| 鈦藍石脈波雷射 TI-SAPPHIRE SHORT-PULSE LASER |
1 | 3960C-L3S 1320G |
實密公司 R213 SPECTRAL PHYSICS LASERSINC |
| 電子顯微鏡 SCANNING ELECTION MICROSCPOE |
1 | 840A SM130067-1081 |
三光 R225 JEOL JAPAN |
| 數位示波器 DIGITIZING OSCILLOSCOPE |
1 | 54750A | HP TAIWAN HP USA |
| 高頻量測站 PROBE STATION |
1 | SUMMIT 9200 (NO) |
雙程 CASCADE MICOTECH U.S.A. |
| 光學頻譜分析儀 OPTICAL SPECTRUM ANALYZER |
1 | 86140B US40460692 |
(NO) 安捷倫台灣分公司 |
| 自動抽氣系統及多層膜自動鍍膜 DUAL SOURCE COATER DEPOSITION SYSTEM |
1 | E570 E032 |
倍強科技(股)公司 |
| 可調變式直流電源供應器 SEMICODUCTOR PARAMETER ANALYZER. |
1 | HP4145B 2830J03167 |
惠普公司 R.203 HEWLETT PACKARD JAPAN. |
| 半導體分析儀 PRECISION SEMICONDUCTOR PARAMETER |
1 | HP4156A JP10A01015 |
惠普 HP |
| 向量訊號分析儀等1批 VECTOR SIGNAL ANALYZER |
1 | 89410A 3416A02816 |
惠普公司 HP |
| 示波器及其周邊設備 Digital Phosphor Oscilloscope |
1 | TDS7404 B031194 |
太克科技 Tektronix,USA |
| 頻譜分析儀(教育部) Sigial analyzer |
1 | FSQ8 100073 |
台灣聯盛通訊 德國 |
| 網路分析儀(教育部) ZVR VECTOR NETWORK ANALYZER |
1 | ZVR 100015 |
台灣聯威通訊 ROHDE & SCHWARS |
| 電漿化學氣相沈積機組裝 SUZUKI CLOO CRYOPUMP |
1 | CCT-CK 11002B (NO) |
和立 |
| 光罩對準機 KARL SUSS ALIGNEV. |
1 | MA-4 205 |
鴻碩公司 R.VLSI KARL SUSS 德國 |
| 發電機 DISEL GENSET. |
1 | DDC440E T0417 |
FG WILSON ENGLAND. |
| 擴散爐 DIFFUSION FURNACE. |
1 | 410/36A 71201/7903131 |
尚上公司 R.乾凈室三樓 THERMCO U.S.A. |
| 擴散爐 DIFFUSION FURNACE. |
1 | 4104FUR CN167R |
尚上公司 R 三樓乾凈室 THERMCO US.A. |
| 微波產生器 MICROWAVE GENERATOR |
1 | SLAN I-DS 062498-1 |
駿宇公司 PLASMA CONSULT GERMAND |
| 高解析度電子能量損失光譜系統 HIGH REDOLUTION ELECTRON ENERGY LOSS |
1 | LK2000 4,559,449 |
東城公司 R.209 LK TECHNOLOGIES U.S.A. |
| 分析測試器 ANALYSIS TESTER. |
1 | J325 1923 |
R.229 TERADYNE U.S.A. |
| 電漿增強式系統 PLASMA ENHANCED PROCESSING SYSTEM. |
1 | IPL 3000E IP*KAE0104B |
IPL U.S.A. |
| 電漿蝕刻機 PLASMA-ETCHER. |
1 | 80 M910070 |
R.乾淨室 BRANSON/19C U.S.A. |
| 全身電腦斷層掃瞄 | 1 | PICKER 600S (NO) |
|
| 非導向性濕式蝕刻槽 UNISOTROPIC WET-ETCHING BENCH |
1 | WET BENCH HI-89021 |
禾邑實業股份有限公司 |
| 陽極接合機 BONDER |
1 | EV501 50160048 |
宇資企業 ELECTRONIC VISION INC. AUS |
| 感應耦核電漿蝕刻機 | 1 | SLR-770I-10R-B 81085-F |
S&T HITECH LTD PLASMA-THERM |
| 乾/濕式廢氣處理器及低壓化學氣相沈積 | 1 | GC-M-2 SP2021 |
肯昇 SHANNPEK TAIWAN |
| 乾/濕式廢氣處理器及低壓化學氣相沈積 | 1 | MJ-2000B 2K092 |
肯昇 ZENITEK CANADA |
| 直流濺鍍機系統 DC SPUTTERING SYSTEM. |
1 | VTI-08DSP FU-981001 |
富臨科技公司 台灣日真 |
| 放電加工機 NC ELECTRICAL DISCHARGE MACHINE |
1 | EX8 09E08583 |
新武機械貿易股份有限公司 MITSUBISHI |
| 晶片玻璃熔接對準機 BOND ALIGNER |
1 | EV450 045041013 |
宇資企業股份有限公司 ELECTRONIC VISIONS INC |
| 電子槍蒸鍍機 E/B DEPOSITION |
1 | FU-500CE 990501 |
台灣日真 TAIWAN |
| 測厚儀 SURFACE PROFILER |
1 | ALPHA-STEP500 08980512 |
辛耘 SCIENTECH ENGIN. CORP USA |
| 電漿化學氣相磊晶系統 PLASMA CVD SYSTEM |
1 | PED-301 EVD-13868 |
ANELVA JAPAN |
| 光罩對準儀 MASK ALIGNER |
1 | MJB3 1794 |
鴻碩 LARL SUSS,德國 |
| 快速加熱退火系統 RAPID THERMAL ANNEALING SYSTEM |
1 | 610I IE93007 |
安鋒 R212 |
| 多功能生物電訊號監測系統 MULTIFUNCTION BIOELECTRICAL MONITORI |
1 | MP150 301A-00002F4 |
日龍儀器股份有限公司 BIOPAC,USA |
| 濺鍍機 SMALL RF SPUTTERING SYSTEM. |
1 | RFS-200 5420 |
ULVAC JAPAN. |
| 高解析度投影機 ULTRA HIGH RESOLUTION DIGITALLY. |
1 | GRAPHICS 1200 1047073 |
慶檳公司 R.722 BARCO 比利時 |
| 濺鍍器 SPUTTERING SYSTEM. |
1 | SU-500-V TA-831 |
U.S.A.INE |
| 電子鎗系統 HIGH-VOLTAGE POWER SUPPLY. |
1 | 833532 8706 |
R.211 L H GERMANY. |
| 鈦紅寶石雷射系統 TI SAPPHIRE LASER SYSTEM |
1 | 890 109305 |
上儀有限公司 COHERENT USA |
| 染料雷射系統 ARGON ION LASER AND DYE LASER. |
1 | 70 7-453-1632 |
上儀公司 R. COHERENT U.S.A. |
| 離子數濺鍍系統 10N BEAM SPUTTERING SYSTEM. |
1 | IKR-020 B6612510/10635 |
日真公司 R.211 HWANG JIUH TAIWAN. |
| 雷射光譜分析儀 Optical Spectrum Analyzen and Probe |
1 | HP86142B US40462538 |
案捷倫 Agilent 86142B,USA |
| 量測系統(教育部) High Frequency High Speed measuremen |
1 | 86100A US41069446 |
Agilent Agilent |
| 高溫基座低漏電量測站 LOW LEAKAGE PROBE STATION |
1 | 8060 932098 |
技鼎科技 MM USA |
| 快速退火爐(國科會) Rapid Thermal Annealing |
1 | Jetfirst 150 CC03066-473 |
肯昇有限公司 Qualiflow (FRANCE) |
| 光學頭 PHOTOPLOTTER OPTIC HEAD |
1 | 52256-MLPP-1.5U MPM80049 |
奇裕企業股份有限公司 NEOS (USA) |
| 厚膜金屬離子反應蝕刻系統 | 1 | NTHU 01~18 |
中華民國偉霖工程有限公司 |
| 反應離子蝕刻系統 RIE-200L RIE SYSTEM |
1 | 22A1384 |
SAMCO INTERNATIONAL INC. |
| 矽等向氣相蝕刻系統 Istropic Silicon Etching System |
1 | Xetch X2series X 210 |
凌勝科技有限公司 XACTIX lnc. USA |
| 反應式離子高深寬比氧化層蝕刻系統 PLASMA REACTIVE ION ETCHING SYSTEM |
1 | RIE-10NR 23A1496 |
SAMCO INTERNTAIONAL INC. SAMCO INTERNATIONAL INC. |
| 氧化矽氣相沉積系統 PLASMA CVD SYSTEM. |
1 | PD-10ST S9709239 |
. SAMCO INTERNATIONAL JAPAN |
| PECVD與RIE等周邊系統 | 1 | 湘展工程股份有限公司 湘展工程股份有限公司 |
|
| 氣相沈積高分子系統 Portable Parylene Dep. Sys. |
1 | PDS-2010 136233 |
雙程科技股份有限公司 SPEEDLINE TECHNOLOGIES,USA |
| 非金屬厚膜濺鍍系統 DC(RF) Sputter |
1 | sputter-445 TU02-0613 |
優貝克科技股份有限公司 ULVAC(台灣) |
| 低壓沉積系統----自動壓力控制系統 automatic pressure control. |
1 | 80-2 | SAMCO INTERNATIONAL INC. |
| 二氧化碳臨界點之乾式反黏著系統 Critical point dryer |
1 | CPD 406/104 CPD 406 UVN |
泰富科技股份有限公司 BAL-TEC |
| 功率元件模擬軟體 POWER DEVICE SIMULATION TOOL |
1 | BSIMPRO HVMOS NTHA |
思略科技 CELESTRY DESIGN TECHNOLOGY |
| 反應式離子蝕刻機 PLASMA REACTIVE ION ETCHING SYSTEM |
1 | RF ETCH D016 |
倍強科技股份有限公司 BRANCHY |
| 頻譜分析儀 Spectrum Analyzer |
1 | FSU-8 100222 |
聯盛 ROHDE&SCHWARZ/Germany |
| 邏輯分析儀與電腦輔助系統 | 1 | TLA5201 B020475 |
太克 太克 |
| 通道衰減模擬暨向量訊號分析系統 Fading channel simulator |
1 | SMIQ03B 101674 |
聯盛通訊股份有限公司 ROHDE&SCHWAR,GERMANY |
| 化學氣相沈積系統 PLASMA DEPOSISION SYSTEM SET |
1 | PD-10TA MFG5940585 |
佳位電器 毫微米實驗室 日本 SAMCO |